雙離子束濺射沉積鍍膜設(shè)備

離子束濺射沉積鍍膜原理是利用離子源產(chǎn)生的高能離子束轟擊置于高真空中的靶材，使靶材原子濺射直接沉積在襯底表面上，在襯底表面重新組合形成薄膜，該鍍膜技術(shù)是純物理過(guò)程，無(wú)環(huán)境污染、無(wú)交叉污染。基本功能1. 可用于在各種襯底材料上濺射沉積各種金屬、合金、化合物及半導(dǎo)體材料的單層薄膜、多層薄膜，也可將單質(zhì)材料通過(guò)反應(yīng)合成氧化物、氮化物、碳化物等薄膜；2. 與CVD和PVD等其他薄膜技術(shù)相比，具有薄膜材料最廣

• 型號(hào)：
• 品牌：
• 產(chǎn)地：